浅析真空镀膜技术的现状及发展趋势

真空镀膜技术始于20世纪30年代，当前真空镀膜技术已从实验室走向了工厂，实现了大规模生产，在光伏、建筑、装饰、通讯、照明等工业领域得到了广泛的应用。

真空镀膜技术是指在真空环境下，通过蒸发金属等固体材料，使其气态化并附着到产品物件的表面，形成一层均匀的薄膜，增强产品的抗腐蚀性、美观性等。从整体来看，真空镀膜技术较传统的电镀方法，在成本、环保、产品质量、装饰效果、能源消耗等方面具有较大优势，是一门拥有光明发展前景的新兴技术。

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE 分子束外延，PLD 激光溅射沉积等很多种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。